半導體超聲波清洗機廠家

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半導體超聲波清洗機廠家：MESA/SC晶片清洗設備該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平。

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更新時間：2021-06-10

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半導體超聲波清洗機廠家概述：

該設備用于晶片的清洗處理。該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平。

半導體超聲波清洗機廠家主要特點：

采用進口PP板制作。

適用MESA*SC晶片清洗。

超聲功率強勁，性能穩定。

采用進口超聲波電源。

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